實驗室哈式槽試驗

原理 : 需要少量鍍液，經過短時間試驗便能得到在較寬的電流密度范圍內鍍液的電鍍效果。

應用 : 由於該試驗對鍍液組成及操作條件作用敏感，因此，常用來確定鍍液各組分的濃度，酸鹼值，確定獲得良好鍍層的電流密度范圍，同時也常用於鍍液的故障分析。赫爾槽已成為電鍍研究，電鍍工藝控制不可缺少的工具。

實驗室分析

運用化學平衡原理使用滴定分析酸及鹼的濃度，如此可確保產品有足夠的清潔度使電鍍完整批覆，亦可降低產品氫脆風險，另一方面經由氧化還原滴定偵測製程化學品中雜質含量以確保電鍍品質。

火焰式原子吸收光譜AA

確認藥水金屬成份的組成。觀察廢水各項金屬指標。